9月15日,一家中国科技公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利正式公布。 摘要显示,该发明涉及芯片设计及制造。这项发明的亮点在于,不用EUV光刻机或DUV光刻机,不需要光刻…
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