9月15日，一家中国科技公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利正式公布。 摘要显示，该发明涉及芯片设计及制造。这项发明的亮点在于，不用EUV光刻机或DUV光刻机，不需要光刻…